ТИУ во второй раз вошёл в сотню лучших вузов страны по версии Forbes

27.06.2019

Тюменский индустриальный университет вошёл в сотню лучших вузов России по версии Forbes. Вузы оценивались по десяти параметрам, разбитым на три группы: качество образования, качество выпускников и фактор Forbes.

В сотню вузов, которые выпускают молодых людей с предпринимательской жилкой, способных в дальнейшем войти в список Forbes и, возможно, стать частью российской политической элиты, вошёл лишь один вуз из Тюмени — Индустриальный университет. С 2018 года опорный вуз в рейтинге поднялся на одну ступеньку вверх и занял 76 место.

В топ-100 вошли ещё три уральских вуза: Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина (54 место), Пермский национальный исследовательский политехнический университет (56 место) и Южно-Уральский государственный университет (81 место).

Лидерами признаны Московский государственный институт стали и сплавов, Московский государственный институт международных отношений, Московский физико-технический институт, Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ» и Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова.

Методика рейтинга по сравнению с 2018-м не поменялась. За основу были взяты данные мониторинга эффективности деятельности более 1000 учреждений высшего образования, подготовленного Министерством науки и высшего образования РФ. При подсчёте учитывается не только качество образования, но и статистические данные о трудоустройстве выпускников, их востребованности в регионах, количестве предпринимателей среди них. Также специалисты, составляющие рейтинг, изучили биографии представителей российской бизнес-элиты, руководителей частных и государственных компаний, чиновников и депутатов.

Таким образом, вузы проанализировали по десяти метрикам, сгруппированным по следующим составляющим: качество образования, качество выпускников и фактор Forbes, учитывающий статус учебного заведения и долю предпринимателей в общем числе выпускников.

Пресс-служба ТИУ

Добавить комментарий

Ваш e-mail не будет опубликован. Обязательные поля помечены *